Hitachi S—3400N型掃描電子顯微鏡,采用TMP分子泵真空系統(tǒng),節(jié)省占地面積和電源功耗。主要用于對材料的微觀形貌、組織和成分進行有效分析。掃描電子顯微鏡詳細信息該設(shè)備具有新研制的電子光學(xué)系統(tǒng)和自動化功能顯示系統(tǒng)有全屏顯示,無閃爍,高像素和實時圖像顯示等優(yōu)異的性能,它還可以實時信號混合并同時顯示兩個不同的檢測器觀測到的互不相同的樣品信息。
案例展示
EDS能譜
1.型號:配套在日立3400N,采用Horiba X-ACT 探測器,下圖為儀器實物圖。
2.EDS分析:點掃、線掃、面掃(面掃為高電壓、大電流、WD=15mm)三種模式進行元素(Be~Am)的成分分析,分辨率127eV(Mn Ka);元素含量大于1%即可檢出;較高電壓下探測樣品深度可達1um,比一般的表面分析技術(shù)要深一些,更充分表征包括樣品表面較深范圍內(nèi)的平均含量。
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設(shè)備特點
1.使用大面積能譜儀意味著低束流下有足夠的計數(shù)率,盡可能高的實現(xiàn)圖像的可視性及準確性,無需為能譜分析改變SEM的條件,在相同束流下,極大地提高計數(shù)率,縮短采集時間,統(tǒng)計性更高,實現(xiàn)小束斑下的能譜分析,提高能譜檢測的空間分辨率,盡可能體現(xiàn)高分辨電鏡的優(yōu)勢。
2.相同條件下,晶體面積越大,以前需要幾分鐘完成的工作,現(xiàn)在僅需要幾秒鐘。面/線分布更易獲得,采集時間相同,可極大地提高分析精度及統(tǒng)計性。
租賃優(yōu)勢
公司介紹
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