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+86 13631705611 +86 13510801076Thermo Scientific? K-Alpha? X 射線光電子能譜 (XPS) 系統升級了核心 XPS 性能,具有更快的數據采集速度、更好的檢測能力和更簡單化學態分辨分析。 激動人心的新硬件功能(如 XPS SnapMap)與全新的軟件功能(如 eSP 和 KnowledgeView 功能)整合,有助于進行能譜識別。 此外還有新的選件可供選擇,包括全自動紫外光電子能譜 (UPS)、真空傳送模塊和 Thermo Scientific? MAGCIS? 離子源,開啟了實驗新契機。
本儀器設備是由Thermo Fisher 公司推出的一款高性能、高測試效用于表面分析技術一款X射線光電子能譜(XPS) 。
儀器型號:Thermo SCIENTIFIC K-Alpha,是一種分析材料表面化學的技術。
單色器:K-Alpha X射線單色器可選擇30 μm至400 μm大小的分析區域,步長 5 μm。將分析區域調到感興趣的特征區域,使得信號最強。高效電子光學透鏡、半球形能量分析器和探測器使得儀器具有高靈敏探測能力,能快速獲得數據。
深度剖析:K-Alpha用標準離子源深入表面層以下進行分析。自動優化源和自動供氣確保優良的性能和實驗重復性。
化學態圖像:K-Alpha 能得到表面化學態像。用于分析樣品上的微小特征,能得到整個樣品臺大小的大樣品圖像。獨特的光學觀察系統可將XPS像與儲存的光學圖像重疊在一起,這一強大功能可用于識別和定量分析表面化學組分的分布。
絕緣樣品分析:源采用離子和極地能量的電子,可使得樣品沒有荷電積累。在大多數情況下,無需荷電校準。
玻璃涂層
聚合物
電池
石墨烯
太陽能電池
OLED
金屬和氧化物
生物表面
薄膜
半導體
陶瓷
催化劑
Al Kα X 射線單色器可用于化學態高分辨分析
微聚焦 X 射線探針可用于化學態成像分析
先進的光學觀察系統可用于對中樣品上微小結構和污染點分析位置
聚焦深度剖析離子源可用于單層和多層膜分析
一鍵式中和系統可用于精確的小面積分析
128 通道探測器用于快速并行快照式采集數據
單色器和電子分析系統的發展使得 K-Alpha 在原來的基礎上能大幅提高 XPS 性能。 用戶使用全新的 X 射線單色器可選擇 50 μm 至 400 μm 大小的分析區域,步長為 5 μm。 分析區域能調到感興趣的特征區域,以獲得最強的信號。 高效電子光學透鏡、半球形能量分析器和探測器使得儀器具有高靈敏探測能力,能快速獲得數據。
K-Alpha 能譜儀的荷電補償使得儀器分析絕緣樣品就像分析非絕緣樣品一樣容易。 賽默飛世爾科技的專利雙束中和槍采用離子和極低能量的電子(低于 1 eV),可使得樣品沒有荷電積累。 在大多數情況下,無需荷電校正,讓分析絕緣樣品數據同數據采集一樣簡單。
XPS SnapMap 與擁有專利的 K-Alpha 反射光學系統相結合,能提供快速 XPS 成像,實現特征位置的對中和鑒定。 XPS SnapMap 能生成幾 mm2 面積的圖像,所需時間遠遠小于生成全圖的時間,非常適合快速鑒定光學觀察無法輕易觀察到的分析區域。 XPS SnapMap 還能用在實驗中,進行快速定量能譜成像。
K-Alpha 能得到表面化學態像。 用于分析樣品上的微小特征,能得到整個樣品臺大小的大樣品圖像。 獨特的光學觀察系統可將 XPS 像與儲存的光學圖像重疊在一起,這一強大功能可用于識別和定量分析表面化學組分的分布。
K-Alpha 采用標準離子源或 MAGCIS(可選雙模單原子和氣體團簇離子源),能深入表面層以下進行分析。 自動優化源和自動供氣確保優良的性能和實驗重復性。
K-Alpha 具有卓越的性能和先進的功能,可滿足科研和常規測量對 XPS 需求。 直觀的操作(由 Avantage 數據系統導航)使得 K-Alpha 適合于多用戶、設備共享用戶和著重高效操作和大量分析的 XPS 專家。
三個攝像頭方便樣品導航和精確對中。 獨特設計的光學成像系統操作預存有用戶的使用經驗,減少了學習的彎路,大大提高了測試效率。
K-Alpha 的分析室內安裝標準樣品,用于必要的校正。只需按下一鍵,K-Alpha 便可在數分鐘內完成自校正。 確保用戶數據非常可信。